NANOMAP 500LS探针式三维形貌仪

简介：

美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造，是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。

NANOMAP 500LS三维形貌仪，既有高精密度和准确度的局部（Local）SPM扫描，又具备大尺度和高测量速度；既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌，又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸，诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等，并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理，在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学，工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。

特点：

1.     针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式，三维扫描范围从10μm X 10μm 到500μm X 500μm。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm。

2.     在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察。

3.     针尖扫描采用双光学传感器，同时拥有宽阔测量动态范围（*大至500μm）及亚纳米级垂直分辨率（*小０.１nm ）

4.     专业的SPIP分析软件

5.     软件设置恒定微力接触。

6.     简单的2步关键操作，友好的软件操作界面。

产品参数：

1.     纵向分辨率：0.1nm

2.     重复精度：0.54nm（1σ@1000nm ）

3.     接触力 ：0.01mg ~ 100mg

4.     纵向量程：500um or 1000um

5.     探针扫描范围：10um ~ 500um

6.     样品台扫面范围：500um~100mm

7.     采样速率：100Hz

8.     彩色CCD

9.     视场分辨率：512X512 像素

10.  视场放大： 4 级调节 480X480um 到 1.5X1.5mm

11.  自动平台：150mm X 150mm 运动范围

12.  样品台：150mm 直径 ，200mm可选

13.  探针： 标注：2um 曲率半径，100nm接触面积； 0.05~25um曲率可选

14.  标准台阶高度样品，美国NIST标定： 500nm ；100um 两块

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