异质结太阳能电池用ITO及金属镀膜设备

Vakia-MSC磁控溅射多层膜镀膜装置为半连续式In-Line设备。专门针对客户产品特点和工艺要求进行结构紧凑化和操控便捷性来设计开发。装置主要由进出片真空室、工艺真空室、大气门阀、传送门阀、射频磁控溅射装置、直流磁控溅射装置、平移传动系统、真空系统（包括真空获得和真空测量）、加热系统、冷却系统、气动力系统、布气系统、电气系统、软件控制等部份组成。是集高真空获得技术、磁控溅射技术、自动化技术及软件控制技术等集于一体的中高端集成系统。

一、系统主要特征：

1、采用半连续In-Line结构，保证工艺真空室在连续的工艺过程中始终保持高真空环境。特别的在有加热条件下可以保证工艺真空室维持良好的热环境，有利于加热器的长久使用，有利于内部零部件长期稳定，有利于提高生产节拍，也有利于保证工艺的稳定性和设备的良好状态。进出片真空室采取小体积设计，减少每次抽气的时间，提升设备的生产节拍。进出片真空室具有N2放气功能，配备防止大气流冲击下产生微粒粉尘的缓冲扩散零件，防止充气过量的泄压阀等附属功能模块。工艺真空室配置二套直流磁控溅射装置，工艺真空室内部设置加热模块及相应的热屏蔽组件和水冷却系统，设置基片*大加热温度400℃。所有溅射源纵向均匀区长度为1100mm。进出片真空室和工艺真空室用传送门阀连接，进出片真空室上有大气门阀。设备整体紧凑，功能模块较为完善。

2、平移传动装置采用伺服电机驱动，动密封采取可靠性较高的磁流体密封方式。优选的方案是进出片真空室的传动系统和工艺真空室的传动系统为两套独立的驱动，总共需要三个伺服电机(工艺真空室传动由于较长需要两套传动模块)。基片承载盘传动采用摩擦传动方式，通过细长的驱动轴上的多个伞齿轮同步带动多个摩擦轮转动，摩擦轮上装有耐高温的氟橡胶密封圈增加与承载盘的摩擦系数。且底部配有支撑轮侧部配有压紧轮保证承载盘的平稳定向运动。运动速度在0-150mm/s内可控可调。在工艺真空室和进出片真空室上配有多组位置传感器随时监控承载盘的所处位置，也用于选择不同的溅射源时实现*优化的运动位置。同时设备上设置多处观察窗用于辅助观察了解内部机构的运行情况。传动采取伺服电机驱动，传动密封采用技术成熟可靠性高的真空磁流体零部件。

3、基片承载盘，按照目前预定产品156X156X0.2规格，每次可以放置42片的基片数量。且承载盘的中间凹槽位置为通孔，有利于基片的加热效率提升。本设备*大镀膜基片尺寸为1100mmX1300mm。

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