LGATM系列在线激光气体分析系统
产品总述:
LGATM系列气体分析系统是基于半导体激光吸收光谱(DLAS)技术的过程气体分析系统,能够在各种环境(尤其是高温、高压、高粉尘、强腐蚀等恶劣环境下)进行气体浓度等参量的在线测量,并具有准确性高、相应速度快、可靠性高、运行费用低等特点,为生产优化、能源回收、安全控制、环保监测和科研分析带来极大的方便,在钢铁冶金、石油化工、环境保护和能源电力等行业已得到广泛的应用。
一、 LGA-4500(旁路型)激光在线气体分析系统介绍
LGA-4500系列激光过程气体分析系统是基于半导体吸收光谱(DLAS)技术的旁路过程气体分析产品,可对各类高粉尘、高压过程气体进行旁路处理后的在线分析。
■ 系统特点
◆基于半导体吸收光谱技术的旁路分析产品,测量精度高、漂移小系统以高稳定性、低噪声的半导体激光器为光源,采用半导体激光吸收光谱 (DLAS) 技术的旁路气体分析系统。由于有效克服了背景气气体组份、粉尘颗粒、光源变化等因素对测量的影响,系统不仅拥有抗干扰能力强,检测灵敏度高的特点,还具有测量漂移小、可靠性高等优势。
◆高温、强腐蚀性气体的在线检测
系统采用非接触光学检测技术,可对各类高温气体(超过140℃)进行直接分析;针对各类腐蚀环境下的检测应用,系统可选配316L、Monel、PTFE等多种材质的测量气室,满足各类应用要求。
◆安装于过程管道现场的旁路处理系统,可靠性高、响应速度快
基于半导体激光吸收光谱(DLAS)独特的技术优势,系统可采用热法处理(预处理系统加热至100℃以上)和分析,旁路处理装置无运动部件,可靠性高;系统环境适应能力强,可直接安装在过程管道处取样、处理和分析,响应速度快。
◆全系统防爆,支持气体温度、压力补偿
系统(包括旁路处理装置)全部采用防爆设计,可满足各类危险区域的应用要求,安全可靠。同时,系统还可选温度、压力传感模块,可对气体温度、压力进行实时监测和补偿,满足高精度测量要求。
二、 LGA-4100(原位型)激光在线气体分析系统介绍
基于半导体激光吸收光谱(DLAS)技术的LGA-4100激光过程气体分析系统是采用一体化设计、高集成度的激光气体分析系统。系统通过无须采样预处理的原位(In-Situ)测量方式,能对各类工业过程气体、环保排放烟气等过程气体进行快速、准确和可靠的测量,为各行业气体在线监测提供了*佳解决方案。
■系统特点
◆可靠性高的一体化设计
LGA-4100 激光过程气体分析系统综合利用了半导体吸收光谱、数字信号处理、一体化正压防爆控制等多项技术,系统紧凑,可靠性高;同时针对各类防爆场合应用,系统内嵌正压控制模块,可实现防爆吹扫正压实时监控,满足各类防爆应用要求。
◆多项创新的设计,显著提高系统适应性:
基于FPI多年的激光气体分析产品的开发和应用经验,LGA-4100 激光在线气体分析系统上集成了多项创新设计,大大提升系统对各类恶劣应用环境适应力。
◆智能化设计,操作方便
LGA-4100系统发射单元集成LCD显示屏和三防键盘,用户可在安装现场直接进行标定、参数设置等操作;同时,系统还支持蓝牙通讯方式,用户可通过LGA掌上助手与分析系统进行无线通讯,操作方便、快捷。
三、 LGA-3000(分布型)激光在线气体分析系统介绍
LGA-3000分布式激光过程气体分析系统是基于半导体激光吸收光谱(DLAS)技术,并采用分布式测量方式,可同时对多个测量点的气体浓度进行实时分析,具有高性价比的激光气体分析产品。
■ 系统特点
◆可靠性高的分布式测量
LGA-3000分布式激光过程分析系统采用独立的测量单元和集中控制的中央单元的系统结构,可实现多达八个不同测量应用(不同工艺点和气体组份)的同时检测。各测量通道独立的激光器和光电测量模块确保了系统的高可靠性,即使中央单元或某个测量通道出现问题,也不会影响其他通道测量。
◆环境适应性强,测量漂移小
LGA-3000分布式激光过程分析系统由于克服粉尘等环境因素对测量影响,大大提高了系统的测量稳定性,标定周期长达半年。同时,各测量通道采用独立的标定模式,确保标定的准确性,符合*严格的计量设备标定要求。
◆集中显示与控制,网络智能管理
LGA-3000中央单元是基于高性能32位处理器的智能化控制单元,采用彩色触摸屏人机界面,功能强大、操作方便;同时系统还支持RS485\RS232\GPRS等多种通讯方式,可方便实现远程调试维护、软件升级等功能,大大提高了系统的适用性和服务响应能力
四、 部分检测气体种类和参数
气体名称 |
测量下限 |
测量量程 |
介质压力 |
介质温度 |
O2 |
0.01 % Vol. |
0-1% Vol., 0-100% Vol. |
10 bar abs. |
1500℃ |
|
||||
CO |
||||
|
40 ppm |
0-8000 ppm, 0-100% Vol. |
2 bar abs. |
1300℃ |
|
||||
CO2 |
||||
|
20 ppm |
0-2000 ppm, 0-100% Vol. |
2 bar abs. |
1500℃ |
|
||||
H2O |
||||
|
0.03 ppm |
0-3 ppm, 0-70% Vol. |
2 bar abs. |
1500℃ |
|
||||
H2S |
||||
|
2 ppm |
0-200 ppm, 0-30% Vol. |
2 bar abs. |
400 ℃ |
|
||||
HF |
||||
|
0.01 ppm |
0-1 ppm, 0-1000 ppm |
3 bar abs. |
600 ℃ |
|
||||
HCl |
||||
|
0.01 ppm |
0-7 ppm, 0-8000 ppm |
2 bar abs. |
500 ℃ |
|
||||
HCN |
||||
|
0.2 ppm |
0-20 ppm, 0-1% Vol. |
2 bar abs. |
500℃ |
NH3 |
0.1 ppm |
0-10 ppm, 0-1% Vol. |
2 bar abs. |
500 ℃ |
|
||||
CH4 |
||||
|
10 ppm |
0-200 ppm, 0-4% Vol. |
5 bar abs. |
500℃ |
C2H2 |
0.1 ppm |
0-10 ppm,0-70% Vol. |
2 bar abs. |
1500℃ |
|
||||
C2H4 |
||||
|
1.0 ppm |
0-100 ppm,0-70% Vol. |
2 bar abs. |
1500℃ |
|
||||
CH3OH |
||||
|
0.1 % |
0-10%, 0-70% Vol. |
2 bar abs. |
1500 ℃ |
|
||||
NO |
||||
|
1 ppm |
0-3000 ppm , 0-70% Vol. |
5 bar abs. |
500 ℃ |
|
五、仪器性能指标: