EDI超纯水设备,线路板电镀用纯水设备,单晶硅半导

报价：11元/套
工程价: 暂无
所在地：广东东莞市
更新时间：2007-09-01 08:46:45
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详情介绍

EDI可代替传统的混合离子交换技术（MB-DI）生产稳定的去离子水。EDI技术与混合离子交换技术相比有如下优点：
　　①水质稳定
　　②容易实现全自动控制
　　③不会因再生而停机
　　④不需化学再生
　　⑤运行费用低
　　⑥厂房面积小
　　⑦无污水排放

　　EDI设备一般以反渗透（RO）纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI纯水电阻率可以高达17MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的纯水。
EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。

我公司生产的部分定EDI设备型号如下：

型号	*大产水量	膜堆数	管径	尺寸
VTEDI-0.5	0.5m³/h	1	DN15	800×900×1700
VTEDI-1	1m³/h	1	DN20	950×1000×1750
VTEDI-2	2m³/h	1	DN25	950×1200×1750
VTEDI-4	4m³/h	1	DN32	920×1500×1750
VTEDI-6	6m³/h	2	DN32	1070×1980×1830
VTEDI-11	11m³/h	2-4	DN50	1370×2340×2130
VTEDI-23	23m³/h	4-8	DN80	1510×3150×2130
VTEDI-34	34m³/h	6-12	DN100	1740×4040×2130
VTEDI-45	45m³/h	8-16	DN100	1830×2510×3340