PVD物理气相沉积具有金属汽化的特点,与不同的气体反应形成一种薄膜涂层。在真空环境下,通过电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同,导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。PVD涂层加工温度属于超低温工艺,对工件尺寸影响非常小,不会影响工件的精度。
PVD涂层性能特点-镀膜的属性
·金属外观
·颜色均匀一致
·耐久的表面,在各种基本的空气和直射阳光环境条件下永久保持良好外观。
·颜色深韵、光亮
·经济,可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。
·对环境无害,避免化学中毒和VOC的散发。
·具生物兼容性-镀膜特性
·卓越的附着力-可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落(PVD镀膜持有很高附着力和耐久力)。其它的技术,包括电镀,喷涂都不能与其相比。
·可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案。
·可以使用在内装修或者室外
·抗氧化,抗腐蚀。