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  • 供应反渗透超纯水设备--反渗透超纯水设备的销售

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详细介绍:

反渗透超纯水设备::
  (分离)技术的应用使反渗透纯水设备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器得到了一次进步。近年来开始在国外推广应用的EDI(电去离子)技术,则是纯水制造技术的一次革命,从此进入了一个无需再生化学品,而能生产出高达18MΩ·CM的纯水,用于半导体、集成电路等行业。国家经委也已将RO + EDI 成套技术的应用列入国家重点推广范围,对使用的企业给以政策上的优惠.
  公司研制的反渗透装置是采用专用RO技术设计,关键部件、设备采用进口**产品,工艺先进,质量可靠,可扩展性强,结构合理占地小,水利用率高,能耗低,全自动化运行,操作维护简单。根据用户要求设计制造反渗透系统,一般产水下限0.25m3/hr,上限不限,水回收率一般可达75%以上,脱盐率>98%。产水量随进水温度下降和反渗透老化或受污染有一定变化。


我公司采用的现代纯水制造工业纯水设备典型工艺流程为:
1: 预处理-反渗透-纯化水箱离子交换器-紫外灯-纯水泵-用水点
2: 预处理-一级反渗透-二级反渗透(正电荷反渗)-纯化水箱纯水泵-紫外灯-用水点
3: 预处理-反渗透-中间水箱-中间水泵-EDI装置-纯化水箱纯水泵-紫外灯-用水点
4: 预处理→紫外线杀菌装置→一级RO装置→二级RO装置→中间水箱→EDI装置→脱氧装置→氮封纯水箱→除TOC UV装置→抛光混床→超滤装置→用水点
水质符合国ASTM标准,电子部纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)

 
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设计原则:
☆ 品质---依照客户生产所需纯水的水质要求及生产特点,并考虑水源的水质(需客户提供水质分析报告或源水样品)。
☆ 可扩充性—系统分段设计规划,考虑就近用水和生产安全需要,可依照生产线需求随时扩充产能,客户可分阶段投资。

反渗透分离)法纯水制造技术:
  反渗透是用足够的压力使溶液中的溶剂(一般常指水)通过反渗透(一种半透)而分离出来,方向与渗透方向相反,可使用大于渗透压的反渗透法进行分离、提纯和浓缩溶液。反渗透的主要分离对象是溶液中的离子范围。
反渗透法分离过程有如下优点:
 ①不需加热、没有相变;
 ②能耗少;过程连续稳定;
 ③设备体积小、操作简单,适应性强;
 ④对环境不产生污染。
 反渗透纯水系统根据不同的源水水质采用不同的工艺。一般自来水经一级反渗透系统处理后,产水电导率<10-20μS/cm,经二级反渗透系统后产水电导率<5μS/cm甚至更低,在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI设备可以制备纯水,使电阻率高达18兆欧姆.厘米。 反渗透老化或受污染后,产水质量会下降.

反渗透纯水系统广泛应用于:
电子工业用水    集成电路、硅晶片、显示管等电子元器件冲洗水
制药行业用水    制药行业用水  大输液、针剂、片剂、生化制品、设备清洗等
化工行业工艺用水  化工循环水、化工产品制造等
电力行业      锅炉补给水  火力发电锅炉、厂矿中低压锅炉动力系统等
食品工业用水    饮用纯净水、饮料、啤酒、白酒、保健品等
海水、苦咸水淡化  海岛、舰船、海上钻井平台、苦咸水地区等
饮用纯净水     房产物业、社区、企事业单位等
超声波清洗用水   电脑配件、特种材料、精密机械等要求高清洁度的超声波清洗线
电镀行业用水    清洗工件用水,槽液用水
其它工艺用水    汽车、家电涂装、镀玻璃、化装品、精细化学品等
电子工业用纯水工艺流程:
电子工业用纯水概述
  半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm15MΩ.cm10MΩ.cm2MΩ.cm0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
 
用两级反渗透制取
电子工业纯水处理设备采用两级反渗透主机加EDI
制取电子工业纯水处理设备
制备电子工业用纯水的工艺流程
  电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种:
  1、采用离子交换树脂制备纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
  2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
  3、采用反渗透水处理设备与电去离子EDI)设备进行搭配的的方式,这是一种制取纯水的*新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱反渗透设备→电去离子EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
电子工业高纯水制备的典型工艺流程:

   预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM(传统工艺)

   预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.20.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM(*新工艺)

   预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.20.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM(*新工艺)

  预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.20.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM(*新工艺)

   预处理系统-反渗透系统-中间水箱纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM(传统工艺)

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北京精科华美

 

 

 

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主营业务:水处理设备、清洗机... [详细]

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