真空镀膜设备,磁控溅射,蒸发镀膜

磁控溅射+蒸发镀膜设备：立式、卧式。是一种多功能、高效的镀膜设备，同时配备高效的电阻加热蒸发装置和先进的圆柱磁控溅射装置，加热蒸发镀膜技术和磁控溅射镀膜技术的有效结合，使设备的适用范围更广，可得到多种不同性能的膜层。 可根据用户要求配置旋转磁控耙、中耙孪生溅射耙、非平衡磁控溅射耙、直流脉冲叠加式偏压电源等，组态灵活、用途广泛，主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件镀铝、铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属及渗金属DLC膜，所镀膜层均匀、致密、附着力强等特点，可广泛用于家电电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。

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