简介： 氢氟酸是氟化工中的一个重要原料，广泛用于太阳能电池和金属电镀等行业。在微电子工业中，半导体在氢氟酸蚀刻过程中会产生大量的氟化物废水。这些废水中氟化物的典型浓度范围在100ppm到10000ppm之间。一般来说，如果废水可以排入污水管网，氟化物排放限值低于20ppm，如果废水排入河流水体，则氟化物排放限值小于 5ppm。在某些辖区，氟化物排放限值可能低于2 ppm。
新能源、锂电池、半导体、新型农药等的生产离不开氟化工，然而这些产生过程会产生含氟量较高的废水。由于过高的氟含量在水系中会引起周边人、畜中毒，所以这些含氟废水需要在排放前进行特殊处理。
目前较为成熟的是通过吸附、离子交换或反渗透在饮用水中去除微量的氟化物。然而由于更高的氟化物浓度和更复杂的水质环境，这些技术无法直接用于工业废水治理。为了更好的去除工业排放中的氟化物，反应机理剖析、工艺设计与组合、试验和水质监测变得尤为重要。
氢氟酸是氟化工中的一个重要原料，广泛用于太阳能电池和金属电镀等行业。在微电子工业中，半导体在氢氟酸蚀刻过程中会产生大量的氟化物废水。这些废水中氟化物的典型浓度范围在100ppm到10000ppm之间。一般来说，如果废水可以排入污水管网，氟化物排放限值低于20ppm，如果废水排入河流水体，则氟化物排放限值小于 5ppm。在某些辖区，氟化物排放限值可能低于2 ppm。
工业废水除氟的解决方案主要包括：
氟化钙 (CaF2) 混凝沉淀
吸附
离子交换
反渗透和电渗析
氟化物浓度高的工业废水通常采用氟化钙沉淀混凝法处理。吸附、离子交换和反渗透更常用于低浓度的氟化物分离和溶剂回收。下列表格总结
了几种除氟方案的优劣势。
浓度（<1000ppm）含氟溶剂的回收
在低浓度含氟溶剂中通过吸附或离子交换技术，可以将氟化物定向去除，并回收剩余溶剂。然而吸附剂的种类繁多，选择较为复杂，需要根据溶质和溶液的成分与实验去匹配合适的吸附材料。除氟材料的再生、使用寿命和使用周期需要根据经济性去匹配，寻找经济节能、环境友好型的吸附方案。
高浓度（>1000ppm）含氟废水的处理
氟化钙的混凝沉淀是从工业废水中去除高浓度氟化物的一种选择，通常适用于半导体行业相关的高浓度含氟废水。在CaF2沉淀过程中，石灰用于中和氟化物废水中的任何废酸。石灰的溶解度很低仅为 0.18%（重量），因此对于氟化物浓度高（高于1000ppm）的废水，石灰要与氯化钙一起使用。过量添加石灰通常会导致下游混凝步骤中铝基混凝剂的消耗量显著增大，并增加污泥量。氟化钙沉淀可将氟化物浓度降低到20ppm以内。
组合工艺改进
通过工艺的组合对现有半导体行业用于去除氟化物的化学沉淀进行改进，将智能化混凝沉淀和陶瓷超滤系统结合，提供了一种成本优化的氟化物去除解决方案。通过智能控制实现自动精确加药，避免石灰和氯化钙加料不足或过量。通过陶瓷膜过滤混凝后的液体，过滤掉CaF2 和 Al(OH)3 细颗粒，流出干净的澄清液，可直接排放或重新用于半导体的氢氟酸蚀刻清洗。整个过程无需大型澄清/沉淀池和筒式过滤，减少了占地面积、维护和运营成本。
